摘要: 溅射、真空蒸镀、以及化学蒸气涂镀(CVD)离子镀、等离子体聚合等薄膜技术都是由分子或原子气体形成固体的过程.相对于在液体中析出物质的液相生长而言,此过程称作气相生长.在气相生长中溅射膜与其它方法相比,差别是否很大这是我们感兴趣的问题.人们已在对膜形成初始阶段的核密度(mucleation density),晶粒尺寸(grain size)、结晶取向(crystallographic orientation)、内应力(internal stress)、膜与基底之间的附着力(adhesion intensity)、化学刻蚀特性等进行研究.这一研究涉及基础研究到应用研究这样广泛的领域.但是,目前还没有人对这些进行统一的综合研究,因此,对上述问题还没得出中肯的答案.下面我们根据迄今研究的结果,分六个方面来介绍对溅射膜的较普遍的特性.各种材料的具体特点在5、6两节中介绍.