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ISSN1001-3806CN51-1125/TN 网站地图

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冷基底消色增透膜

周密译 商开校

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冷基底消色增透膜

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出版历程
  • 刊出日期:  1986-11-25

冷基底消色增透膜

摘要: 工业中采用的真空消色增透膜,其镀制的必要条件是将镀件加热到250~300℃。其原因在于,膜系中包含有氟化物膜层,它们只有蒸镀在加热的光学零件上,才能保证其机械强度。无需加热制备消色增透膜,是很有前景的,因为这可以解决两个相互无关的任务:缩短了生产时间,由于消除了镀件加热和冷却所花费的时间;保证镀件不承受高温加热而获得增透。

English Abstract

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