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薄膜蒸镀

于祖兰

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薄膜蒸镀

  • 摘要: 由Plasmatron Coatings & Systems公司生产的UHV型X多室薄膜蒸镀系统可用于在低温下生产高温超导器件,基片加工室以原地、大面积、高密度、抗等离子体装置等为特色,这样就可以让基片在淀积期间浸没在高密度的氧原子等离子体中。
  • [1] 王学仁 . 对于蒸镀薄膜柱状结构的讨论. 激光技术, 1986, 10(4): 23-26.
    [2] 张伟赵恒谦 . 蒸镀调制盘及其分析. 激光技术, 1989, 13(6): 49-52.
    [3] 周九林张苑颜清华周明 . 低能电子束辅助蒸镀的初步实验. 激光技术, 1986, 10(2): 26-29.
    [4] 段致平周九林 . 变折射率膜层的获得——实用气相混合蒸镀技术之二. 激光技术, 1987, 11(6): 19-22.
    [5] 段致平周九林 . 任意折射率的均匀混合膜的获得——实用气相混合蒸镀技术之一. 激光技术, 1987, 11(6): 14-18.
    [6] 丁方译黄君兰校 . 真空镀制干涉薄膜时监控片高度的计算. 激光技术, 1983, 7(3): 35-36.
    [7] 西伧周九林 . 多层光学薄膜镀制中的一些实际问题. 激光技术, 1982, 6(3): 45-50,18.
    [8] 周密译夏开校 . 用二元气相混合法镀制预定折射率的光学薄膜. 激光技术, 1987, 11(1): 18-19.
    [9] 张波黄德修 . 镀有高反膜的1/4波片工作特性分析. 激光技术, 2003, 27(1): 29-30.
    [10] 刘金成王骐马祖光 . Na2近红外激光振荡用谐振腔片镀制. 激光技术, 1993, 17(2): 78-82.
    [11] 严嵋 . 金膜的镀制及其反射率的测量. 激光技术, 1981, 5(4): 49-51.
    [12] 王丹丹余圣甫刘毅 . 激光功率对镀Cu-Ni低碳钢/不锈钢焊点性能的影响. 激光技术, 2016, 40(6): 806-809. doi: 10.7510/jgjs.issn.1001-3806.2016.06.007
    [13] 崔开放钟良龚伟代竟雄 . 陶瓷表面激光无钯活化及其化学镀镍. 激光技术, 2018, 42(5): 622-626. doi: 10.7510/jgjs.issn.1001-3806.2018.05.008
    [14] 浦树德译汪建设校 . 溅射薄膜的特点. 激光技术, 1985, 9(6): 17-22.
    [15] 戴尚峰译张承铨校 . 吸收薄膜的光学常数(摘译). 激光技术, 1985, 9(2): 21-26.
    [16] 中尧松明 . 控制薄膜淀积的设备. 激光技术, 1991, 15(1): 64-64.
    [17] 钟奋译钟遥校 . TiO2薄膜的光强度. 激光技术, 1984, 8(2): 12-13.
    [18] 佟雷译黄君兰校 . 光学薄膜的离子抛光. 激光技术, 1980, 4(2): 50-51,22.
    [19] 魏红振李家鎔 . 薄膜红外探测器的研究. 激光技术, 1999, 23(2): 122-125.
    [20] 周耀译卢中尧校 . 吸收薄膜光学常数的计算. 激光技术, 1981, 5(3): 34-38.
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出版历程
  • 刊出日期:  1991-03-25

薄膜蒸镀

摘要: 由Plasmatron Coatings & Systems公司生产的UHV型X多室薄膜蒸镀系统可用于在低温下生产高温超导器件,基片加工室以原地、大面积、高密度、抗等离子体装置等为特色,这样就可以让基片在淀积期间浸没在高密度的氧原子等离子体中。

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