二元光学元件制作误差的振幅矢量分析法

谈苏庆; 周进; 高文琦

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二元光学元件制作误差的振幅矢量分析法

谈苏庆 , 周进 , 高文琦

文章导航 > 激光技术 > 1996 > 20(5): 308-312

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二元光学元件制作误差的振幅矢量分析法

1.
南京大学物理系, 南京, 210093

作者简介: 谈苏庆(附照片),女,1955年11月出生。讲师。现从事物理教学及科研工作;周进,男,1959年5月出生。副教授。现从事教学及二元光学方面的研究;高文琦,女,1934年3月出生。教授。现从事教学及计算全息等方面的研究。;谈苏庆(附照片),女,1955年11月出生。讲师。现从事物理教学及科研工作;周进,男,1959年5月出生。副教授。现从事教学及二元光学方面的研究;高文琦,女,1934年3月出生。教授。现从事教学及计算全息等方面的研究。;谈苏庆(附照片),女,1955年11月出生。讲师。现从事物理教学及科研工作;周进,男,1959年5月出生。副教授。现从事教学及二元光学方面的研究;高文琦,女,1934年3月出生。教授。现从事教学及计算全息等方面的研究。.

基金项目:
江苏省自然科学基金

Amplitude vector analytics of binary optical element fabrication errors

1.
Department of Physics, Nanjing University

摘要: 本文用振幅矢量法分析二元光学元件的制作误差对衍射效率的影响,以四位相台阶光栅为例导出了衍射效率与对位误差、刻蚀深度误差的解析式并进行了讨论。整个处理方法对2n位相台阶的二元光学元件具有普遍意义。
- 振幅矢量法 /
- 二元光学元件 /
- 制作误差 /
- 衍射效率
Abstract: This paper analyses the fabrication errors of binary optical elements exerting an influence on diffraction efficiency through amplitude vector analytics.In terms of the four level element,the analytical formula about the diffraction efficiency,aim error and the error of etching depth is deduced and discussed.This method has the universal sense for 2n-level binary optical elements.
- amplitude vector method /
- binary optical element /
- fabrication errors /
- diffraction efficiency

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