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电子束泵浦参数对氩第3谱带的影响

赵永蓬 王骐 刘金成

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电子束泵浦参数对氩第3谱带的影响

    作者简介: 赵永蓬,男,1973年9月出生.讲师.现从事离子准分子、毛细管放电等短波长激光研究..
  • 基金项目:

    国家自然科学基金资助项目

  • 中图分类号: O437.2

Effect of pumping parameters of electron beam on the third continuum of argon

  • CLC number: O437.2

  • 摘要: 对电子束装置进行了调试,使二极管的电流和电压可以在一定范围内改变。利用该电子束装置泵浦0.3MPa的氩气,获得了中心位于240nm氩的第3谱带。在二极管电流和电压两个参数中保持一个不变的情况下,改变另一个参数,观察到氩的第3谱带随二极管电压或电流的增加强度增大。
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出版历程
  • 收稿日期:  2002-02-05
  • 录用日期:  2002-04-05
  • 刊出日期:  2003-03-25

电子束泵浦参数对氩第3谱带的影响

    作者简介: 赵永蓬,男,1973年9月出生.讲师.现从事离子准分子、毛细管放电等短波长激光研究.
  • 1. 哈尔滨工业大学可调谐激光技术国家级重点实验室, 哈尔滨, 150001
基金项目:  国家自然科学基金资助项目

摘要: 对电子束装置进行了调试,使二极管的电流和电压可以在一定范围内改变。利用该电子束装置泵浦0.3MPa的氩气,获得了中心位于240nm氩的第3谱带。在二极管电流和电压两个参数中保持一个不变的情况下,改变另一个参数,观察到氩的第3谱带随二极管电压或电流的增加强度增大。

English Abstract

参考文献 (12)

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