利用激光沉积研究镧钼阴极表面发射机制

郝世明; 聂祚仁

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利用激光沉积研究镧钼阴极表面发射机制

郝世明 , 聂祚仁

文章导航 > 激光技术 > 2008 > 32(4): 357-359,409

引用本文:

Citation:

利用激光沉积研究镧钼阴极表面发射机制

郝世明^1,2,
聂祚仁²

1.
河南科技大学, 理学院, 洛阳, 471003;
2.
北京工业大学, 材料科学与工程学院, 北京, 100022

作者简介: 郝世明(1975- ),男,讲师,主要从事真空电子及激光制备薄膜方面研究开发工作.E-mail:s_m_hao@126.com.

基金项目:
河南科技大学人才科学研究基金资助项目(05-097);河南科技大学青年科学研究基金资助项目(2006QN042)
中图分类号: O484

Study surface emission mechanism of La2O3-Mo cathode by laser deposition

HAO Shi-ming^1,2,
NIE Zuo-ren²

1.
College of Sciences, Henan University of Science and Technology, Luoyang 471003, China;
2.
College of Material Science and Engineering, Beijing University of Technology, Beijing 100022, China
CLC number: O484

摘要: 为了研究镧钼阴极表面发射机制,采用专为研究阴极设计的与俄歇能谱仪相连的脉冲激光沉积装置制备薄膜阴极.通过测量阴极发射性能和原位分析表面成分(原子数分数),研究了阴极表面元素镧La和氧O变化对阴极发射性能的影响.实验发现随着阴极表面镧膜变薄,阴极发射性能逐渐减弱;阴极发射性能与表面元素La,O 的含量有关,表面层中La/O越高,阴极的发射性能越好.结果表明,传统的单原子层理论无法解释镧钼阴极的发射机制;超额镧在镧钼阴极的发射中起到了关键作用.
- 激光技术 /
- 热电子发射 /
- 发射机制 /
- 脉冲激光沉积 /
- 薄膜
Abstract: In order to study the surface emission mechanism of La2O3-Mo cathode,film cathodes were studied by using a set of equipment,specially designed for cathode research,with which film cathode can be prepared by pulse laser deposition.In order to gain insight into the relation between cathode emission properties and the cathode surface La/O ratio,electron emission properties and surface compositions(lanthanum and oxygen) of the cathodes were investigated experimentally.Experiment results indicate that the emission current densities descent gradually along with surface lanthanum film thickness attenuation;the cathode emission properties are determined intensively by the surface atomic La/O ratios.The higher the La/O ratio gets,the better the emission property reaches.Then the theory of La2O3-Mo cathode emission mechanism was discussed.It indicates that the theory of monoatomic layer can't explain perfectly emission mechanism of La2O3-Mo cathode;the excess active lanthanum is crucial element to the improvement of thermionic emission.
- laser technique /
- thermionic emission /
- emission mechanism /
- pulse laser deposition /
- thin film

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利用激光沉积研究镧钼阴极表面发射机制

郝世明^1,2
聂祚仁²

作者简介: 郝世明(1975- ),男,讲师,主要从事真空电子及激光制备薄膜方面研究开发工作.E-mail:s_m_hao@126.com

1. 河南科技大学, 理学院, 洛阳, 471003;
2. 北京工业大学, 材料科学与工程学院, 北京, 100022

收稿日期: 2007-04-05
录用日期: 2007-08-26
网络出版日期: 2008-08-25

基金项目: 河南科技大学人才科学研究基金资助项目(05-097);河南科技大学青年科学研究基金资助项目(2006QN042)

关键词:

摘要: 为了研究镧钼阴极表面发射机制,采用专为研究阴极设计的与俄歇能谱仪相连的脉冲激光沉积装置制备薄膜阴极.通过测量阴极发射性能和原位分析表面成分(原子数分数),研究了阴极表面元素镧La和氧O变化对阴极发射性能的影响.实验发现随着阴极表面镧膜变薄,阴极发射性能逐渐减弱;阴极发射性能与表面元素La,O 的含量有关,表面层中La/O越高,阴极的发射性能越好.结果表明,传统的单原子层理论无法解释镧钼阴极的发射机制;超额镧在镧钼阴极的发射中起到了关键作用.