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ISSN1001-3806CN51-1125/TN 网站地图

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激光化学气相沉积技术在掩模版修复中的应用

黄河 朱晓 朱长虹 朱广志 李跃松 张沛 万承华

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激光化学气相沉积技术在掩模版修复中的应用

    作者简介: 黄河(1982- ),男,硕士研究生,研究方向是激光化学气相沉积技术在掩模版修复中的应用..
    通讯作者: 朱晓, zx@hust.edu.cn
  • 中图分类号: TQ034

Laser chemical vapor deposition used in photomask repair

    Corresponding author: ZHU Xiao, zx@hust.edu.cn ;
  • CLC number: TQ034

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出版历程
  • 收稿日期:  2006-03-06
  • 录用日期:  2006-09-29
  • 刊出日期:  2007-06-25

激光化学气相沉积技术在掩模版修复中的应用

    通讯作者: 朱晓, zx@hust.edu.cn
    作者简介: 黄河(1982- ),男,硕士研究生,研究方向是激光化学气相沉积技术在掩模版修复中的应用.
  • 1. 华中科技大学, 激光工程研究院, 武汉, 430074;
  • 2. 清溢精密光电有限公司, 深圳, 518000

摘要: 为了对光掩模版亮场缺陷进行修补,采用激光化学气相沉积的方法,利用功率密度为1.3×108W/cm2的55nm紫外激光诱导Cr(CO)6分解,在1.5s内获得了光掩模亮场区域附着力强、消光比高的金属Cr膜.结果表明,在开放的环境下,采用高功率密度、短作用时间的方法能够得到高质量的沉积薄膜,满足了微电子行业中对掩模版修复的要求.

English Abstract

参考文献 (10)

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