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激光直写制备薄膜铂电阻技术研究

吴波 吴云峰 匡艳

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激光直写制备薄膜铂电阻技术研究

    作者简介: 吴波(1987- ),男,硕士研究生,现主要从事激光应用技术方面的研究..
    通讯作者: 吴波, yfwu_72@163.com
  • 中图分类号:

    TN249

Direct laser writing of thin platinum film resistors

    Corresponding author: WU Bo, yfwu_72@163.com ;
  • CLC number:

    TN249

  • 摘要: 为了研究激光直写技术在制备薄膜铂电阻中的应用,采用激光直写制备了薄膜厚度为2m的铂电阻。探讨了激光直写技术制备薄膜铂电阻的原理,以条形铂电阻为例,研究了激光参量对铂电阻形状的影响,在最优的激光脉冲频率18kHz、激光扫描速率100mm/s的参量下,制备了实际电阻约为0.37的条形薄膜铂电阻,最后检验了薄膜铂电阻的电阻值。结果表明,铂电阻的宽度分别随激光脉冲频率和激光扫描速率的增大而增大;制备的电阻边缘整齐,表面平整,电阻实际值与理论值只有0.8%的相对误差,吻合很好。
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出版历程
  • 收稿日期:  2011-07-12
  • 录用日期:  2011-09-13
  • 刊出日期:  2012-05-25

激光直写制备薄膜铂电阻技术研究

    通讯作者: 吴波, yfwu_72@163.com
    作者简介: 吴波(1987- ),男,硕士研究生,现主要从事激光应用技术方面的研究.
  • 1. 电子科技大学 光电信息学院 成都 610054

摘要: 为了研究激光直写技术在制备薄膜铂电阻中的应用,采用激光直写制备了薄膜厚度为2m的铂电阻。探讨了激光直写技术制备薄膜铂电阻的原理,以条形铂电阻为例,研究了激光参量对铂电阻形状的影响,在最优的激光脉冲频率18kHz、激光扫描速率100mm/s的参量下,制备了实际电阻约为0.37的条形薄膜铂电阻,最后检验了薄膜铂电阻的电阻值。结果表明,铂电阻的宽度分别随激光脉冲频率和激光扫描速率的增大而增大;制备的电阻边缘整齐,表面平整,电阻实际值与理论值只有0.8%的相对误差,吻合很好。

English Abstract

参考文献 (14)

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