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电子束蒸发制备掺钕钇铝石榴石薄膜特性研究

任豪 曾群 庞振华 周应恒 梁锡辉

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电子束蒸发制备掺钕钇铝石榴石薄膜特性研究

    作者简介: 任豪(1972- ),男,博士,高级工程师,主要从事硅基发光材料方面的研究.E-mail:r_h@vip.tom.com.
  • 基金项目:

    2009年广州市科学技术局应用基础研究计划资助项目(2009J1-C411)

  • 中图分类号: O484.4

Characteristics of Nd:Y3Al5O12 thin film prepared by electron beam evaporation deposition

  • CLC number: O484.4

  • 摘要: 硅基光电集成技术是当代高速信息化的重要发展方向之一。为了研究制备在硅衬底上的新型发光材料,突破Nd:YAG固体激光工作物质主要是晶体、透明陶瓷等固体形态的限制,采用电子束蒸发沉积工艺,在硅(100)衬底上制备了Nd:YAG薄膜,并对Nd:YAG薄膜的表面形貌、晶体结构、光学特性进行了测试。X射线和扫描电子显微镜测试结果显示,Nd:YAG薄膜经1100℃真空高温退火处理1h后有效结晶,采用钛蓝宝石激光器输出808nm激光激发,液氮冷却的InGaAs阵列探测器室温下得到Nd:YAG薄膜的1064nm主荧光峰的荧光光谱。结果表明,采用电子束蒸发沉积和后续高温退火工艺可以在硅衬底上制备Nd:YAG晶体薄膜。
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出版历程
  • 收稿日期:  2011-10-24
  • 录用日期:  2011-12-16
  • 刊出日期:  2012-07-25

电子束蒸发制备掺钕钇铝石榴石薄膜特性研究

    作者简介: 任豪(1972- ),男,博士,高级工程师,主要从事硅基发光材料方面的研究.E-mail:r_h@vip.tom.com
  • 1. 华南师范大学信息光电子科技学院, 广州510631;
  • 2. 广州市光机电技术研究院, 广州510631
基金项目:  2009年广州市科学技术局应用基础研究计划资助项目(2009J1-C411)

摘要: 硅基光电集成技术是当代高速信息化的重要发展方向之一。为了研究制备在硅衬底上的新型发光材料,突破Nd:YAG固体激光工作物质主要是晶体、透明陶瓷等固体形态的限制,采用电子束蒸发沉积工艺,在硅(100)衬底上制备了Nd:YAG薄膜,并对Nd:YAG薄膜的表面形貌、晶体结构、光学特性进行了测试。X射线和扫描电子显微镜测试结果显示,Nd:YAG薄膜经1100℃真空高温退火处理1h后有效结晶,采用钛蓝宝石激光器输出808nm激光激发,液氮冷却的InGaAs阵列探测器室温下得到Nd:YAG薄膜的1064nm主荧光峰的荧光光谱。结果表明,采用电子束蒸发沉积和后续高温退火工艺可以在硅衬底上制备Nd:YAG晶体薄膜。

English Abstract

参考文献 (20)

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