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大焦深数字灰度光刻物镜设计

胡思熠 许忠保

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大焦深数字灰度光刻物镜设计

    作者简介: 胡思熠(1987- ),男,硕士研究生,现主要从事光学设计和光电检测等方面的研究。.
    通讯作者: 许忠保, xuzhangb@163.com
  • 基金项目:

    国家自然科学基金资助项目(61077086);湖北省重点自然科学基金资助项目(2011CDA007)

  • 中图分类号:

    TN305.7;TN202

Design of objective lens with long focus depth for digital grayscale lithography

    Corresponding author: XU Zhong-bao, xuzhangb@163.com
  • CLC number:

    TN305.7;TN202

  • 摘要: 为了提高数字灰度光刻系统的焦深,研究了基于点扩散函数稳定性的光瞳编码优化方法,在此基础上综合考虑系统的成像对比度和分辨率,利用工程计算软件MAPLE和光学设计软件ZEMAX设计了一种分辨率为1m的含有5区相位型光瞳滤波器的长焦深数字灰度光刻系统。结果表明,系统调制传递函数表现出离焦不变性,在保证像方分辨率的前提下,系统的焦深被延拓到原有焦深的2.5倍以上,且在整个焦深空间内系统性能与焦点处保持一致,从而提高了光刻系统的工艺容限。所得实验结果与理论分析一致,说明了设计的可行性。
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出版历程
  • 收稿日期:  2012-10-25
  • 录用日期:  2012-11-29
  • 刊出日期:  2013-07-25

大焦深数字灰度光刻物镜设计

    通讯作者: 许忠保, xuzhangb@163.com
    作者简介: 胡思熠(1987- ),男,硕士研究生,现主要从事光学设计和光电检测等方面的研究。
  • 1. 湖北工业大学 机械工程学院, 武汉 430068
基金项目:  国家自然科学基金资助项目(61077086);湖北省重点自然科学基金资助项目(2011CDA007)

摘要: 为了提高数字灰度光刻系统的焦深,研究了基于点扩散函数稳定性的光瞳编码优化方法,在此基础上综合考虑系统的成像对比度和分辨率,利用工程计算软件MAPLE和光学设计软件ZEMAX设计了一种分辨率为1m的含有5区相位型光瞳滤波器的长焦深数字灰度光刻系统。结果表明,系统调制传递函数表现出离焦不变性,在保证像方分辨率的前提下,系统的焦深被延拓到原有焦深的2.5倍以上,且在整个焦深空间内系统性能与焦点处保持一致,从而提高了光刻系统的工艺容限。所得实验结果与理论分析一致,说明了设计的可行性。

English Abstract

参考文献 (15)

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