基片表面的倾斜度对光学势阱的影响

张宝武; 支理想; 王道档

doi:10.7510/jgjs.issn.1001-3806.2014.03.021

基片表面的倾斜度对光学势阱的影响

1.
中国计量学院计量测试工程学院, 杭州 310018;
2.
天津大学精密测试技术及仪器国家重点实验室, 天津 300072

作者简介: 张宝武（1978-），男，博士，讲师，研究方向为原子光刻技术。E-mail：zhangbaowu1978@gmail.com.

基金项目:
国家自然科学基金资助项目（11064002）;浙江省自然科学基金资助项目（LQ13F050002）;广西省自然科学基金资助项目（2012gxnsfaa53229;2013GXNSFDA019 002）;天津大学精密测试技术及仪器国家重点实验室开放基金资助项目;广西省自动检测技术与仪器重点实验室基金资助项目（YQ14206）
中图分类号: O43

Effect of substrate surface slope on optical potential

1.
College of Metrology & Measurement Engineering, China Jiliang University, Hangzhou 310018, China;
2.
State Key Laboratory of Precision Measuring Technology and Instruments, Tianjin University, Tianjin 300072, China
CLC number: O43

摘要: 为了研究原子光刻实验中基片对汇聚激光场的影响，基于几何光学，采用数值仿真的方法，研究了基片表面的倾斜度对光学势阱的影响。结果表明，当基片表面相对于激光驻波中轴线正倾斜时，基片表面会形成一个无光场区，使光学势阱为0，且在z方向上光学势阱会发生一个零值突变；当基片表面相对于驻波中轴线负倾斜时，基片表面永远存在光场，在z方向上光学势阱不会发生零值突变，且光学势阱相对于z=0会出现对称现象。该研究结果对激光汇聚原子沉积实验具有指导意义。
- 激光技术 /
- 激光驻波场 /
- 高斯激光 /
- 倾斜度
Abstract: In order to study effect of substrate on the focusing laser field in atom lithograph, based on geometrical optics and numerical simulation, effects of substrate surface slope on optical potential were studied. The results indicate that when the substrate surface has positive slope related to the laser standing wave axis, there is an area without light illumination on the surface whose optical potential is zero, and the curve of optical potential in z direction will suddenly vanish; when the substrate surface has negative slope related to the laser standing wave axis, all the surface will be illuminated by the laser and the curve of optical potential in z direction will vary smoothly to zero, and the optical potential will be symmetric related to z=0. The results are useful for the experiment of laser-focusing atom deposition.
- laser technique /
- laser standing wave field /
- Gaussian laser /
- slope

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