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ISSN1001-3806CN51-1125/TN 网站地图

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355nm紫外激光抛光Al2O3陶瓷工艺的研究

周敏 魏昕 谢小柱 胡伟

引用本文:
Citation:

355nm紫外激光抛光Al2O3陶瓷工艺的研究

    通讯作者: 魏昕, weixin@gdut.edu.cn
  • 基金项目:

    国家自然科学基金资助项目(50675038;50805027);广东省自然科学基金资助项目(S2013010014070)

  • 中图分类号: TN249

Study on polishing process of Al2O3 ceramic with 355nm ultraviolet laser

    Corresponding author: WEI Xin, weixin@gdut.edu.cn ;
  • CLC number: TN249

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出版历程
  • 收稿日期:  2013-08-16
  • 录用日期:  2013-09-03
  • 刊出日期:  2014-07-25

355nm紫外激光抛光Al2O3陶瓷工艺的研究

    通讯作者: 魏昕, weixin@gdut.edu.cn
  • 1. 广东工业大学 机电工程学院, 广州 510006
基金项目:  国家自然科学基金资助项目(50675038;50805027);广东省自然科学基金资助项目(S2013010014070)

摘要: 紫外激光抛光Al2O3陶瓷可以有效地降低加工中的热影响区、防止微裂纹的产生。为了得到不同激光工艺参量(激光能量密度、扫描速率、扫描间隔)对Al2O3陶瓷抛光表面粗糙度的影响规律,采用单因素实验方法进行了355nm紫外激光抛光Al2O3陶瓷的工艺实验,获得了最优的工艺参量范围。结果表明,当激光能量密度为6J/cm2、扫描间隔为2μm、扫描速率为60mm/s时,抛光后分别获得了较小的表面粗糙度值。这一结果对获得的低粗糙度、高质量的Al2O3陶瓷抛光表面具有指导意义。

English Abstract

参考文献 (10)

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