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激光化学气相沉积石墨烯的基底温度场仿真

陈永庆 张陈涛 张建寰

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激光化学气相沉积石墨烯的基底温度场仿真

    作者简介: 陈永庆(1988-),男,硕士研究生,现主要从事石墨烯激光法制备的研究。.
    通讯作者: 张建寰, aeolus@xmu.edu.cn
  • 基金项目:

    教育部留学回国人员科研启动基金资助项目;福建省新世纪优秀人才支持计划资助项目

  • 中图分类号: O644.18

Simulation of temperature field of graphene substrate fabricated by laser chemical vapor deposition

    Corresponding author: ZHANG Jianhuan, aeolus@xmu.edu.cn
  • CLC number: O644.18

  • 摘要: 为了分析激光化学气相沉积制备石墨烯过程中催化剂基底的静态和动态温度场分布与各个实验参量之间的关系,采用基于ANSYS软件建立有限元分析模型和加载532nm激光热源模型的方法,取得了不同实验参量影响下基底温度场分布和达到反应温度所需时间的数据。结果表明,在基底材料属性、激光功率大小、基底面积尺寸、聚焦光斑直径、反应气体流量的影响下,基底静态温度场的分布与达到反应温度所需时间均不同,可作为制备高质量石墨烯实验的参考依据。采用波长为532nm、功率为3W、聚焦光斑直径为50m、移动速率为1mm/s的连续型激光器,以镍箔为基底材料,在标准状态下甲烷和氢气流量分别为10mL/min和5mL/min条件下仿真得到的动态温度场符合激光化学气相沉积法制备图案化石墨烯的生长机理。
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出版历程
  • 收稿日期:  2014-12-01
  • 录用日期:  2014-12-24
  • 刊出日期:  2015-09-25

激光化学气相沉积石墨烯的基底温度场仿真

    通讯作者: 张建寰, aeolus@xmu.edu.cn
    作者简介: 陈永庆(1988-),男,硕士研究生,现主要从事石墨烯激光法制备的研究。
  • 1. 厦门大学 物理与机电工程学院 机电工程系, 厦门 361005
基金项目:  教育部留学回国人员科研启动基金资助项目;福建省新世纪优秀人才支持计划资助项目

摘要: 为了分析激光化学气相沉积制备石墨烯过程中催化剂基底的静态和动态温度场分布与各个实验参量之间的关系,采用基于ANSYS软件建立有限元分析模型和加载532nm激光热源模型的方法,取得了不同实验参量影响下基底温度场分布和达到反应温度所需时间的数据。结果表明,在基底材料属性、激光功率大小、基底面积尺寸、聚焦光斑直径、反应气体流量的影响下,基底静态温度场的分布与达到反应温度所需时间均不同,可作为制备高质量石墨烯实验的参考依据。采用波长为532nm、功率为3W、聚焦光斑直径为50m、移动速率为1mm/s的连续型激光器,以镍箔为基底材料,在标准状态下甲烷和氢气流量分别为10mL/min和5mL/min条件下仿真得到的动态温度场符合激光化学气相沉积法制备图案化石墨烯的生长机理。

English Abstract

参考文献 (19)

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